第2084章 沉浸式光刻理论

第2084章 沉浸式光刻理论

这个想法当然也和赵长安的想法不谋而合，所以他当然是热烈的鼓掌。

只有苏博，南鹂这些研发人员才知道，牛比好吹，可很多的事情想要真正的实现，可真不容易。

只是一个集成电路设计中心，想要达到设计的世界前沿性，都需要集中成百上千一流的工程师们常年持之以恒不懈的努力，然而就算是能够做到这些，也只是有了一种成功的可能。

要知道你才在呀呀学步，可别人也都没有闲着，都在大步的奔跑，甚至在飞。

而且这还只是集成电路设计这一环节，现在江城这边和赵长安居然不知道天高地厚的提出来这么多不可思议，匪夷所思的要求和想法，简直就颠覆了他们两个的三观。

说文雅一点就是三观节操尽碎！

先别说别的，只是这个光科技，就是一百个一纳米卖掉的钱，都不一定足够资金的投入。

而且就算投入了，成功的可能性也不大。

而且就算是侥幸成功了，制造出来合格的光刻机，有着尼康，GCA，Siemens（西门子），Kasper Instruments，佳能，库力索法，PerkinElmer，——

怎么看苏博和黄鹂都认为，在自由市场的竞争下，都是毫无胜算，完全属于拿着几十亿甚至上百亿的资金，去做别人已经重复做过的事情，完全就是在扔钱！

——

英特尔创始人之一戈登·摩尔(Gordon Moore），在1965年4月，提出来了一个著名的叫做摩尔定律的产业规范。

集成电路上可容纳的元器件的数量，每隔18至24个月就会增加一倍(相应的芯片制程也会不断缩小)，也会带来一次芯片性能性能的飞跃，这一增长率至少在未来十年内几乎维持，为一个常数。

这是对芯片设计的要求，但同时也在要求光刻机的必须领先设计环节一步，交付出相应规格的设备来。

光刻机的本质其实与投影仪+照相机差不多，以光为刀，将设计好的电路图投射到硅片之上。

在78年以前，光刻机一直都是欧美这些西方国家垄断占据着绝大多数的市场份额，然而随着对芯片制程的尺寸要求越来越小，这些企业在光影上面的准确缩放技术则是被后起之秀，做了几十年相机的尼康追平甚至反超，和老牌光刻机公司GCA几乎垄断了世界上大部分的微米级芯片的销售。

到了九十年代，尼康已经成为了全世界当之无愧的光刻机巨头，英特尔、IBM、AMD、德州仪器，每天排队堵在尼康门口等待最新产品下线。

尼康甚至在非公开场合猖狂的扬言‘如果我们交不出光刻机，摩尔定律就会从此停止’。——这句话在十几年以后的赵长安的前一世，ASML也有样学样的说了这么一句话：“如果我们交不出EUV，摩尔定律就会从此停止。”

很显然，尼康这句狂妄至极的话，也深深的刺痛了欧美西方霸权们脆弱而又敏感的，猴子的红屁股一样的神经。

虽然迄今为止，尼康依然是光刻机行业的老大，然而以老m为首的西方财团，一直都在致力于利用风投，把天量的资金砸在欧美一些小型的新兴光刻机研发领域的企业上，期望能够培养出来一家由欧美人真正控制的世界一流的光刻机企业，至少也得和尼康打平，甚至反超式的碾压打压。

把这家不知道天高地厚，谁才是你得主子的小东阳的光刻机企业打垮，打的资不抵债的破产清盘机器都当破烂卖。

这样他们身为主子，看到不老实，眼睛里面没有一点的水儿，胆敢不识趣的想要在科技上超过主人的奴才倒霉，他们才会高兴的以舒心中块垒。

于是在老m钱针引线的主导下，西门子旗下一家成立了将近二十年，里面总共只有31个员工的合资小公司ASML，则被老m看中了，推出来站台。

集结大量欧美顶尖科研高校和一流半导体企业的力量，全力支持ASML研发新一代193nm制程以下的光刻机，去干翻不长眼的奴才。

在这个世界上的00年的十月，光刻机的光源波长依然被卡死在193nm已经有好几年。

尼康主张用在前代技术的基础上，采用157nm的 F2激光，走稳健道路。

而这一选择，其实有着很强烈的极限终极的意味，因为即使尼康成功的研发了157nm制程的F2激光光刻机，那么18到24个月以后呢，怎么还能研发这一类激光源已经到了极限的157nm制程天堑以下的光刻机？

新生的EUV LLC联盟则押注更激进的极紫外技术，在对未来的展望是用仅有十几纳米的极紫外光，刻十纳米以下的芯片制程。

也就是说，ASML现在正在研发的193nm制程以下的光刻机，使用极紫外技术，是光刻机领域一个新的征程的起点。

正在做着从零到一，从虚无到实质的尝试性跃迁。

假如能够成功，那么再从一到二，从二到三，则是顺理成章的依次类推递进。

而尼康想要研发的157nm F2激光光刻机，则